首页> 外文OA文献 >Fabrication of Micro-Optics Elements with Arbitrary Surface Profiles Based on One-Step Maskless Grayscale Lithography

【2h】

Fabrication of Micro-Optics Elements with Arbitrary Surface Profiles Based on One-Step Maskless Grayscale Lithography

机译：基于一步式无掩模灰度光刻技术制作具有任意表面轮廓的微光学元件

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Qinyuan Deng; Yong Yang; Hongtao Gao; Yi Zhou; Yu He; Song Hu;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2017
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Fabrication of Micro-Optics Elements with Arbitrary Surface Profiles Based on One-Step Maskless Grayscale Lithography [J] . Hongtao Gao, Qinyuan Deng, Song Hu, Micromachines . 2017,第10期

机译：基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
2. Fabrication of continuous relief micro-optic elements using real-time maskless lithography technique based on DMD [J] . Zhong K., Gao Y., Li F., Optics & Laser Technology . 2014,第Null期

机译：基于DMD的实时无掩模光刻技术制造连续浮雕微光学元件
3. One-step maskless grayscale lithography for the fabrication of 3-dimensional structures in SU-8 [J] . Amritha Rammohan, Prabhat K. Dwivedi, Rodrigo Martinez-Duarte, Sensors and Actuators . 2011,第1期

机译：用于SU-8中3维结构制造的一步式无掩模灰度光刻
4. Rapid fabrication of micro optical elements using DMD-based maskless lithography technique [C] . Xiaowei Guo, Qiming Dong International Conference on Advances in Materials and Manufacturing Processes . 2011

机译：基于DMD的无掩模光刻技术快速制造微光学元件
5. Interface tractions and subsurface stresses in rolling elements with arbitrary profiles [D] . Singh, Sarbjit 1988

机译：具有任意轮廓的滚动体中的界面牵引力和地下应力
6. Fabrication of Micro-Optics Elements with Arbitrary Surface Profiles Based on One-Step Maskless Grayscale Lithography [O] . Qinyuan Deng, Yong Yang, Hongtao Gao, 2017

机译：基于一步法无掩模灰度光刻的具有任意表面轮廓的微光学元件的制备
7. High-Speed Transmission and Mass Data Storage Solutions for Large-Area and Arbitrarily Structured Fabrication through Maskless Lithography [O] . Yu Lu, Wei Wu, Ke-yi Wang 2016

机译：大面积的高速传输和质量数据存储解决方案，通过掩模光刻进行任意结构化制造
8. System and Method for Maskless Lithography Using and Array of Sources and an Array of Focusing Elements. [R] . Gil, D., Mnon, R., Carter, D., 2005

机译：使用和无源光源阵列以及聚焦元件阵列的无掩模光刻系统和方法。

Fabrication of Micro-Optics Elements with Arbitrary Surface Profiles Based on One-Step Maskless Grayscale Lithography

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅